技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

最終更新日:2023年10月30日

技術・工業および知的財産権供与に関わる制度

主に知的財産権法(2002年法律82号)によって規定されている。2023年法律163号により、知的財産庁設立が規定された。

知的財産権法

知的財産権法(2002年法律82号)の内容は、4分野に分けられる。

  1. 特許権、実用新案、集積回路のためのレイアウト設計および非公開情報
  2. 商号権、商標権、地理的表示および意匠権
  3. 著作権および著作隣接権
  4. 植物品種

特許権、商標、著作権の保護期間などについては、次のとおり。

  1. 特許権
    • 保護期間は出願の日から20年。
    • 特許出願の際には出願料を支払う必要がある。また、特許登録の2年目以降から特許権の存続期間の満了まで、毎年特許料を支払う必要がある。
  2. 商標
    • 保護期間は、出願の日から10年(商標権者の請求により同一期間の更新可能)。
    • 商標登録は、規定に基づく申請料とともに商業登録局宛に申請を行う。
    • 商標権侵害は、商法(1997年法律17号)第66条に基づき、不正競争行為として罰せられる。
  3. 著作権
    • 本の著作権の保護期間は、法人については第1版の出版から50年。自然人については、創作時から死後50年。

知的財産庁設立

2023年法律163号により、エジプト知的財産庁(Egyptian Authority for Intellectual Property)設立が規定された。知的財産庁は内閣直属で、知的財産権の登録および利用の奨励、世界知的所有権機関(WIPO)との連携、クレーム調査等を担う。

特許審査ハイウェイ

日本の特許庁とエジプト特許庁は、特許審査ハイウェイ(PPH)試行プログラムを2015年6月1日から開始。2023年6月1日から新たに3年間のプログラムが開始しており、2026年5月31日に終了予定。

特許庁:日エジプト特許審査ハイウェイ試行プログラムについて外部サイトへ、新しいウィンドウで開きます